Premium
Sprawdź, czy ten produkt jest bezpieczny DLA CIEBIE

Załóż darmowy profil składników — zaznaczysz, czego chcesz unikać, a my sprawdzimy za Ciebie każdy skład INCI.

Załóż darmowy profil składników Masz konto? Zaloguj się
Perfecta 10x Perfecta Fenomen C Maska na twarz, szyję i dekolt — Składniki i ocena
Perfecta

10x Perfecta Fenomen C Maska na twarz, szyję i dekolt

Score
PurScore
Znaleźliśmy 652 lepszych produktów w tej kategorii (ocena 80+)
Zobacz lepsze
Kompletność danych 82%
Data pobrania składu: nieznana
Niektóre linki do sklepów mogą być linkami partnerskimi. Jeśli dokonasz zakupu przez taki link, możemy otrzymać prowizję bez dodatkowych kosztów dla Ciebie. Nie wpływa to na nasze oceny produktów.
Opis produktu

10x Perfecta Fenomen C Maska na twarz, szyję i dekolt to produkt marki Perfecta, który pomoże Ci zadbać o skórę twarzy, szyi i dekoltu. Skład jej zawiera takie składniki jak woda, lecytyna, sorbitol, askorbyl glucosyd, pantenol, glukoza, trilaureth-4 fosfat i gliceryna. Maska została oceniona na 63 punkty w systemie PurScore.

Skladniki (37)

Data pobrania składu: nieznana. Producent mógł od tego czasu zmienić recepturę.

✎ Brakuje składnika? Zgłoś

Porownanie cen

Brak danych o cenach.

Porównaj ten produkt

Umieść ten Score na swojej stronie (blog, forum, Instagram-bio)

Badge SVG — mała odznaka ze Score, idealna do wpisów blogowych:

PurScore: 60/100 <a href="https://purscore.pl/produkt/perfecta-10x-perfecta-fenomen-c-maska-na-twarz-szyje-i-dekolt"><img src="https://purscore.pl/badge/produkt/perfecta-10x-perfecta-fenomen-c-maska-na-twarz-szyje-i-dekolt.svg" alt="PurScore: 60/100"></a>

iFrame — pełna karta produktu z CTA (do forum, newslettera):

<iframe src="https://purscore.pl/embed/produkt/perfecta-10x-perfecta-fenomen-c-maska-na-twarz-szyje-i-dekolt" width="360" height="280" style="border:0; max-width:100%"></iframe>

Kopiuj kod → wklej w HTML bloga. Wolno używać bez pytania — wspomnij tylko źródło (PurScore).

0 produktów